商品紹介
V1の機能をベースに開発された酸素ガス専用の発生装置であるV2と、酸素ガス･窒素ガス併産を特徴とするV3は、ノンタービン
方式の深冷分離オンサイトプラントです。
製鉄所･ガス化溶融炉･液晶･プラズマディスプレイ･半導体･太陽電池･ガラス工場等へのオンサイトガス供給
| 項目 | 発生量(Nm3/hr) | 純度(％) |
|---|---|---|
| 酸素ガス | 300～5000 | 93～99.8 |
| 窒素ガス | 300～12500 | 99.999 |
V1の機能をベースに開発された酸素ガス専用の発生装置であるV2と、酸素ガス･窒素ガス併産を特徴とするV3は、ノンタービン
方式の深冷分離オンサイトプラントです。
| 項目 | 発生量(Nm3/hr) | 純度(％) |
|---|---|---|
| 酸素ガス | 300～5000 | 93～99.8 |
| 窒素ガス | 300～12500 | 99.999 |
